课程性质：
     薄膜技术在工业上已得到广泛应用，特别在电子材料与器件工业领域中占有极为重要的地位。平板显示、集成电路、信息存储、MEMS、物联网探测与感知、绿色能源等领域都离不开薄膜技术的发展。通过本课程的学习，不仅使学生掌握真空技术、掌握薄膜制备的技术方法，理解薄膜生长的物理机制，结合后续实践课程，还能使学生具备真空系统中相关设备的操作与维护、薄膜制备、薄膜性能表征等实际动手能力，为今后从事薄膜材料、薄膜技术、敏感元件及传感器、半导体材料与元器件、微电子工艺技术、太阳能电池、显示器件、LED等工作打下良好的基础。

课程学习目标：
     （1）、通过学习学生要掌握和了解真空技术的基本知识、各种真空设备的工作原理、真空系统的操作及真空测量原理；物理气相沉积的真空蒸发原理、膜厚分布计算及真空蒸发镀膜的常规工艺；溅射的基本原理、溅射镀膜的厚度均匀性评估及溅射镀膜的常规工艺；离子镀原理、离子镀的特点；离子轰击的作用及离子镀的类型；能根据制定好的方案，设计满足特定需求的真空镀膜系统、真空器件或各种镀膜工艺流程、技术方法，并在设计环节中体现创新意识，并能考虑社会、健康、安全、法律、文化以及环境等因素；
     （2）、通过学习学生要掌握和了解化学气相沉积的基本原理和特点、CVD的工艺方法（其中包括低压化学气相沉积、等离子体化学气相沉积）；化学反应沉积、化学溶液法镀膜的阳极氧化法及电镀法的工作机理等；了解真空镀膜过程环境保护的相关法律法规，理解环境保护和社会可持续发展的内涵和意义；
     （3）、通过学习学生要掌握和了解各种真空镀膜设备构成、薄膜的生长以及薄膜结构、各种薄膜性能测试表征技术等；能根据真空镀膜系统，镀膜材料或真空器件、功能薄膜的适当要求选择合适的制备设备和测试仪器，能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响，初步掌握薄膜结构表征的方法。为进一步开展薄膜材料的制备和应用研究奠定基础。