薄膜材料与技术

邹友生

目录

  • 1 第一章 绪论和等离子体
    • 1.1 课程介绍与主要内容
    • 1.2 薄膜应用与定义
    • 1.3 薄膜分类
    • 1.4 等离子体定义与分类
    • 1.5 等离子体分类与特性
  • 2 等离子体
    • 2.1 等离子体产生方式
    • 2.2 气体放电
    • 2.3 等离子体中的反应
    • 2.4 等离子体与固体表面相互作用
    • 2.5 真空发展史
  • 3 真空
    • 3.1 真空区域划分
    • 3.2 真空获得与工作范围
    • 3.3 机械泵
    • 3.4 扩散泵
    • 3.5 分子泵与低温泵
  • 4 化学气相沉积
    • 4.1 真空计测量原理
    • 4.2 CVD介绍
    • 4.3 CVD热力学与动力学
    • 4.4 光CVD与PECVD
    • 4.5 MWCVD
  • 5 CVD与PVD
    • 5.1 MWCVD金刚石与cBN
    • 5.2 MOCVD与总结
    • 5.3 真空蒸发原理
    • 5.4 蒸发速率与蒸发源
    • 5.5 电阻加热与电子束加热
  • 6 PVD
    • 6.1 激光蒸发等与PLD
    • 6.2 溅射基本原理
    • 6.3 溅射基本参数
    • 6.4 直流溅射
    • 6.5 射频溅射与磁控溅射
  • 7 PVD
    • 7.1 反应溅射
    • 7.2 溅射镀膜实例介绍
    • 7.3 离子镀沉积
    • 7.4 电弧离子镀
    • 7.5 外延生长及总结
  • 8 薄膜形核与生长
    • 8.1 单体吸附
    • 8.2 吸附原子运动
    • 8.3 成核理论
    • 8.4 生长过程与模式
    • 8.5 成分表征及复习
离子镀沉积
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