真空与薄膜技术

吴新坤

目录

  • 1 真空技术
    • 1.1 前言、薄膜及应用
    • 1.2 真空基础概念、真空度划分
    • 1.3 吸附与脱附、真空材料
    • 1.4 机械泵
    • 1.5 其他真空泵
    • 1.6 真空测量
    • 1.7 真空部件和真空系统
  • 2 薄膜沉积的物理方法
    • 2.1 PVD 蒸发
    • 2.2 电阻蒸发、电子束蒸发、高频感应加热蒸发
    • 2.3 合金与化合物蒸发、外延、激光蒸发、PLD
    • 2.4 蒸发速率、残气
    • 2.5 蒸发源、溅射
    • 2.6 气体放电、直流溅射、射频溅射
    • 2.7 磁控溅射、离化
  • 3 薄膜沉积的化学方法
    • 3.1 几种化学反应方法
    • 3.2 MOCVD、PECVD等
    • 3.3 电化学法
  • 4 薄膜材料的表征方法
    • 4.1 膜厚表征
    • 4.2 结构表征
    • 4.3 成份表征、其他
  • 5 复习 简版
    • 5.1 复习 简版
蒸发源、溅射
  • 1 课件
  • 2 拓展学习
  • 3 附件
  • 4 课堂录课

2.5 蒸发源、溅射

复习后请一周内完成第十二次作业。