透射电子显微分析样品制备

一、透射电镜样品的一般要求：

1.样品必须很薄，使电子束能够穿透，样品的厚度〈100～200 nm,一般厚度为100 nm左右；

2.样品需置于直径为2-3mm的铜网上，所以试样的直径〈铜网直径；

3.试样必须使固体，且不能含有水分及挥发物；

4.必须有足够的强度和稳定性；在电子轰击下不致于损坏或发生变化；

5.试样必须清洁，以免污染而造成对像质的影响；

6.导电，不导电的试样要蒸镀碳膜；

7.对磁性物质要预先去磁，以免电子束受影响。

二、TEM样品测试过程：

抽真空--上样品--观察--拍照

三、TEM可得到的信息：

• 材料的形貌 

• 组织结构

• 尺寸分布

• 微区元素分布

• 微区元素分析

• 选区晶体结构分析

四、样品制备

• TEM应用的深度和广度一定程度上取决于试样制备技术；

• 能够充分发挥电镜的作用，样品的制备是关键，必须根据不同仪器的要求和试样的特征选择适当的制备方法；

• 电子束穿透固体样品的能力，主要取决于加速电压V和样品物质的原子序数Z。一般V越高，Z越低，电子束以穿透的样品厚度越大；

• 对于TEM常用的50～200KV电子束，样品厚度控制在100～200 nm,样品经铜网承载，装入样品台，放入样品室进行观察。

• TEM样品制备方法有很多，常用支持膜法、晶体薄膜复型法和超薄切片法4种。