第四节 激光整形和微光斑形成系统
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9.4激光整形和微光斑形成系统
u适用于半导体激光器
u方法:
•拦光法
•柱面镜法棱镜法
微光斑形成系统
u主要考虑因素:
衍射
像差
u方法如前介绍,注意调整距离。
目录
9.4激光整形和微光斑形成系统
u适用于半导体激光器
u方法:
•拦光法
•柱面镜法棱镜法
微光斑形成系统
u主要考虑因素:
衍射
像差
u方法如前介绍,注意调整距离。