主讲教师:戴显英 魏葳
| 学校: | 西安电子科技大学 |
| 开课院系: | 微电子学院 |
| 课程编号: | MI024057 |
| 学分: | 3 |
| 课时: | 48 |
本课程创建于1959年,是国家级一流专业微电子科学与工程(教改班)的专业核心课。1958年,课程创始人孙青等教师制备我国高校第一支半导体锗单晶,开创了本课程理论联系实践的教学特色。1970年5月7日,自主创建了一条完整的半导体生产线,至今仍是国内少数拥有工艺实践教学的课程。2015年,开设了西电SPOC课程,开始了线上线下混合教学。2020年并入了半导体器件工艺设计课程,7个平行班均为混合式教学。2022年建设爱课程和e-MOOC联盟的现代集成电路制造技术MOOC,2022年增设集成电路制造技术与工艺实践(卓越班)和微纳集成电路工艺(教改班)课程,课程组所有三门课、8个教学班均为混合式教学。 目前课程组(包括集成电路制造技术与实践和微纳集成电路工艺(微电子科学与工程教改班)课程)教学团队12人,均为博士学位,其中教授及博导4人、副教授及硕导5人、讲师及硕导1人、助教2人,形成了年龄与知识结构合理、具有创新意识、科研能力强的教学团队。 课程团队始终秉持“以学生为中心,德育为先,能力为重,知识为基,创新精神”的人才培养理念,进行教学设计和教学实践。课程坚持知识、能力和素质有机融合的教学目标,使学生系统掌握现代集成电路制造技术的专业知识,深刻理解集成电路制造技术对环境和社会发展的影响,具备深度分析和解决复杂问题的能力,培养勇于质疑、大胆创新的精神和能力,传承西电红色基因,塑造国家建设和社会发展的合格人才。 经过六十多年的发展,课程组形成了以下特色:①集体思维研讨式教学:以问题为导向,从课前小组讨论问题,到课中师生共同研讨关键问题解决思路;从课后小组分析讨论翻转课堂资料,再到课中翻转课堂展开集体辩论,以集体智慧实现对知识的掌握与应用,培养团队精神。②培养创新思维和科学精神的科教融合教学:基于国家级科研成果和前沿技术,将思政元素与创新技术案例有机融合,学习创新方法,开拓学术视野,培养科学精神。③提升解决复杂工艺问题能力的产教融合实践教学:基于企业工艺难题,开展高水平产教融合工艺设计,提升创新能力和复杂问题解决能力。④三位一体创新课程知识体系:将工艺原理、工艺仿真和工艺设计有机结合,体现了后摩尔定律工艺知识体系,有效支撑了复杂工艺工程问题解决能力、创新意识与创新思维的培养。⑤四上四下教学法:将自学、讲授、研讨、案例、翻转课堂、工艺仿真和工艺设计等教学模式有机混合到线上线下,合理安排到课前课中课后,进行回溯递进教学,实现对知识的深刻理解、熟练掌握与灵活应用。⑥西电红色精神特色的全过程课程思政:以元素多元、模式多样、线上线下混合、贯穿教学全过程的西电红色精神特色课程思政,切实解决了课程思政内容单调、模式单一、无特色等问题。
| 课程章节 | | 文件类型 | | 大小 | | 备注 | |
| 1.1 绪论教学设计 |
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10.38MB | |||
| 1.2 集成电路技术发展历史 |
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| 1.3 中国集成电路发展历程 |
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视频
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375.09MB | |||
| 1.4 摩尔定律 |
视频
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1.34GB | |||
| 1.5 集成电路产业链 |
视频
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427.50MB | ||
| 1.6 绪论测验 |
作业
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| 2.1 教学设计 |
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3.54MB | ||
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10.24MB | |||
| 2.2 半导体硅的重要性 |
视频
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503.42MB | ||
| 2.3 多晶硅的制备 |
视频
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274.27MB | ||
| 2.4 Si单晶的制备 |
视频
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469.66MB | ||
| 2.5 硅片的制备 |
视频
.mp4
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485.70MB | ||
| 2.6 硅片测验 |
作业
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| 3.1 教学设计 |
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视频
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视频
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| 3.2 热氧化的种类及应用 |
视频
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227.55MB | ||
| 3.3 硅的热氧化生长过程分析 |
视频
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236.90MB | ||
| 3.4 迪尔-格罗夫氧化动力学分析 |
视频
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452.94MB | ||
| 3.5 热氧化生长速率 |
视频
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287.58MB | ||
| 3.6 影响氧化速率的决定性因素 |
视频
.mp4
|
381.67MB | ||
| 3.7 影响氧化速率的其他因素 |
视频
.mp4
|
306.95MB | ||
| 3.8 热氧化过程中的杂质再分布 |
视频
.mp4
|
308.47MB | ||
| 3.9 快速初始氧化阶段 |
视频
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154.70MB | ||
| 3.10 氧化测验 |
作业
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| 4.1 教学设计 |
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2.80MB | ||
| 4.2 扩散的基本概念 |
视频
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220.20MB | ||
| 4.3 扩散系数和扩散方程 |
视频
.mp4
|
263.81MB | ||
| 4.4 扩散杂质浓度分布 |
视频
.mp4
|
367.81MB | ||
| 4.5 二维扩散和扩散的局限性 |
视频
.mp4
|
236.27MB | ||
| 4.6 扩散工艺 |
视频
.mp4
|
260.64MB | ||
| 4.7 扩散测验 |
作业
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| 5.1 教学设计 |
文档
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4.58MB | ||
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文档
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5.11MB | |||
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视频
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|
视频
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| 5.2 离子注入基本概念 |
文档
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|
6.72MB | ||
|
视频
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|
422.60MB | |||
| 5.3 离子注入机理 |
文档
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|
6.72MB | ||
|
视频
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|
334.59MB | |||
| 5.4 离子注入分布 |
视频
.mp4
|
410.06MB | ||
| 5.5 沟道效应 |
视频
.mp4
|
328.71MB | ||
| 5.6 离子注入损伤 |
视频
.mp4
|
350.62MB | ||
| 5.7 离子注入退火 |
视频
.mp4
|
279.37MB | ||
| 5.8 快速热退火 |
视频
.mp4
|
206.44MB | ||
| 5.9 离子注入应用 |
视频
.mp4
|
262.16MB | ||
| 5.10 离子注入测验 |
作业
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| 6.1 教学设计 |
文档
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|
3.53MB | ||
| 6.2 薄膜制备基本概念 |
视频
.mp4
|
279.39MB | ||
| 6.3 真空蒸发基本概念 |
视频
.mp4
|
405.99MB | ||
| 6.4 真空蒸发方式 |
视频
.mp4
|
446.13MB | ||
| 6.5 真空蒸发应用及局限性 |
视频
.mp4
|
340.42MB | ||
| 6.6 溅射基本概念 |
视频
.mp4
|
254.01MB | ||
| 6.7 溅射方法 |
视频
.mp4
|
563.87MB | ||
| 6.8 PVD测验 |
作业
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| 7.1 教学设计 |
文档
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14.16MB | ||
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视频
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文档
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3.39MB | |||
| 7.2 CVD基本概念与应用 |
视频
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|
253.65MB | ||
| 7.3 CVD的基本过程 |
视频
.mp4
|
323.52MB | ||
| 7.4 化学气相淀积动力学分析 |
视频
.mp4
|
350.07MB | ||
| 7.5 影响淀积速率的因素 |
视频
.mp4
|
372.01MB | ||
| 7.6 CVD系统 |
视频
.mp4
|
279.85MB | ||
| 7.7 CVD多晶硅与金属 |
视频
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|
330.34MB | ||
| 7.8 CVD二氧化硅 |
视频
.mp4
|
469.62MB | ||
| 7.9 CVD氮化硅 |
视频
.mp4
|
322.24MB | ||
| 7.10 CVD测验 |
作业
.work
|
-- | ||
| 8.1 教学设计 |
文档
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|
2.83MB | ||
| 8.2 外延的基本概念 |
视频
.mp4
|
453.27MB | ||
| 8.3 外延生长模型 |
视频
.mp4
|
392.73MB | ||
| 8.4 外延生长的影响因素 |
视频
.mp4
|
484.19MB | ||
| 8.5 外延层杂质分布 |
视频
.mp4
|
471.45MB | ||
| 8.6 先进的外延技术 |
视频
.mp4
|
450.76MB | ||
| 8.7 外延测验 |
作业
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|
-- | ||
| 9.1 教学设计 |
文档
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|
3.71MB | ||
|
文档
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4.88MB | |||
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文档
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|
视频
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232.55MB | |||
|
视频
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|
193.56MB | |||
|
视频
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266.20MB | |||
|
视频
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289.11MB | |||
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文档
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文档
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文档
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2.06MB | |||
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文档
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483.00KB | |||
|
文档
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|
1.50MB | |||
|
文档
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|
2.20MB | |||
| 9.2 光刻工艺重要性与光刻三要素 |
视频
.mp4
|
698.69MB | ||
| 9.3 光刻工艺流程(上) |
视频
.mp4
|
390.42MB | ||
| 9.4 光刻工艺流程(下) |
视频
.mp4
|
403.16MB | ||
| 9.5 光刻分辨率 |
视频
.mp4
|
693.67MB | ||
|
视频
.mp4
|
576.28MB | |||
| 9.6 光刻胶 |
视频
.mp4
|
376.22MB | ||
| 9.7 光刻版 |
视频
.mp4
|
484.76MB | ||
| 9.8 光刻机 |
视频
.mp4
|
222.02MB | ||
| 9.9 曝光光源 |
视频
.mp4
|
198.89MB | ||
| 9.10 光刻测验 |
作业
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|
-- | ||
| 10.1 教学设计 |
文档
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|
3.62MB | ||
|
视频
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|
286.49MB | |||
|
视频
.mp4
|
273.82MB | |||
| 10.2 刻蚀参数 |
视频
.mp4
|
452.87MB | ||
| 10.3 湿法刻蚀 |
视频
.mp4
|
483.43MB | ||
| 10.4 干法刻蚀 |
视频
.mp4
|
422.69MB | ||
| 10.5 干法刻蚀的应用 |
视频
.mp4
|
590.50MB | ||
| 10.6 刻蚀测验 |
作业
.work
|
-- | ||
| 11.1 教学设计 |
文档
.pdf
|
3.78MB | ||
|
视频
.mp4
|
247.27MB | |||
|
视频
.mp4
|
229.00MB | |||
| 11.2 典型金属化材料及应用 |
视频
.mp4
|
402.19MB | ||
| 11.3 金属铝的性质与铝互连 |
视频
.mp4
|
268.37MB | ||
| 11.4 铜互连工艺的关键 |
视频
.mp4
|
303.86MB | ||
| 11.5 多层互连与平坦化技术 |
视频
.mp4
|
286.16MB | ||
| 11.6 金属化测验 |
作业
.work
|
-- | ||
| 12.1 教学设计 |
文档
.pdf
|
5.58MB | ||
|
视频
.mp4
|
245.63MB | |||
|
视频
.mp4
|
254.61MB | |||
|
文档
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14.16MB | |||
|
文档
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1.14MB | |||
|
文档
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7.30MB | |||
|
文档
.ppt
|
7.69MB | |||
|
文档
.pdf
|
437.73KB | |||
| 12.2 集成电路中的隔离 |
视频
.mp4
|
374.78MB | ||
| 12.3 Si CMOS IC的阱工艺及工艺流程 |
视频
.mp4
|
254.02MB | ||
| 12.4 标准埋层双极集成电路技术与工艺流程 |
视频
.mp4
|
212.34MB | ||
| 12.5 Si CMO IC工艺技术特征与发展 |
视频
.mp4
|
622.60MB | ||
| 12.6 现代Si CMOS IC工艺流程(一) |
视频
.mp4
|
64.80MB | ||
| 12.7 现代Si CMOS IC工艺流程(二) |
视频
.mp4
|
81.40MB | ||
| 12.8 现代Si CMOS IC工艺流程(三) |
视频
.mp4
|
53.36MB | ||
| 12.9 工艺集成测验 |
作业
.work
|
-- | ||
| 13.1 教学设计课件及软件教程 |
文档
.pdf
|
10.16MB | ||
| 13.2.1 热氧化鸟嘴效应 |
文档
.docx
|
212.50KB | ||
| 13.2.2 扩散的预淀积工艺 |
文档
.docx
|
127.00KB | ||
| 13.2.3 离子注入沟道效应防止方法 |
文档
.docx
|
56.33KB | ||
| 13.2.4 CVD工艺 |
文档
.docx
|
63.02KB | ||
| 13.2.5 外延工艺 |
文档
.docx
|
104.53KB | ||
| 13.2.6 光刻工艺 |
文档
.docx
|
88.87KB | ||
| 13.2.7 刻蚀工艺 |
文档
.docx
|
79.12KB | ||
| 13.2.8 CMP工艺 |
文档
.docx
|
122.52KB | ||
| 13.3 GaN LED工艺制造与光电特性虚拟仿真实验 |
文档
.doc
|
6.81MB | ||
| 14.1 教学设计 |
文档
.pdf
|
1.77MB | ||
|
视频
.mp4
|
425.51MB | |||
|
文档
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|
11.11MB | |||
|
文档
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|
9.00MB | |||
| 14.2 氮化硅薄膜的应用 |
视频
.mp4
|
273.82MB | ||
|
文档
.pptx
|
14.16MB | |||
| 14.3 193纳米浸入式光刻技术 |
文档
.pptx
|
8.90MB | ||
| 15.1 教学设计 |
文档
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|
4.38MB | ||
| 15.2 先进的光刻技术 |
文档
.pptx
|
19.96MB | ||
| 15.3 延续摩尔定律的创新技术 |
文档
.pptx
|
16.66MB | ||
|
视频
.mp4
|
369.65MB | |||
| 16.1 课程论文设计 |
文档
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12.76KB | |||
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文档
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13.88KB | |||
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文档
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83.13KB | |||
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文档
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96.20KB | |||
| 16.2 课程论文答辩 |
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|
视频
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261.58MB | |||
| 17.1 ppt课件 |
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2.15MB | ||
| 17.2 课堂教学录像 |
视频
.mp4
|
251.88MB | ||
| 18.1 课程考核成绩组成 |
文档
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|
266.65KB | ||
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| 18.2 平时作业 |
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文档
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文档
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文档
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文档
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文档
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2.78MB | |||
| 18.3 随堂测试 |
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| 18.6.3 GaN LED器件设计与仿真 |
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| 18.8 课程成绩 |
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