薄膜材料与技术
主讲教师：邹友生
| 学校： | 南京理工大学 |
| 开课院系： | 116 |
| 开课专业： | 材料物理 |
| 课程编号： | 16035804 |
| 学分： | 2.0 |
课程介绍
作为特殊形态材料的薄膜，已经成为微电子学、光电子学、磁电子学、机械加工工具、传感器、太阳能利用等新兴交叉学科的材料基础，并渗透到当代科技和国民经济的各个领域，如航空航天、交通、医疗、通信和信息等。在材料科学的各分支中，薄膜材料科学的发展一直占据了极为重要的地位并得到迅速发展，各类新型薄膜材料大量涌现并在高新技术中得到广泛应用；薄膜制备技术和工艺不断创新。本课程重点介绍薄膜制备的等离子体基础知识及真空技术基础、薄膜制备的化学方法、薄膜制备的物理方法、薄膜的形核与生长、薄膜的表征、薄膜材料及应用。
课程章节
教学方法
本课程采取课堂讲解、小组讨论等互动式教学方式，通过课程学习，材料物理专业本科生能全面掌握薄膜材料的制备方法、工艺流程和原理，具备薄膜材料制备及合理设计和选择应用薄膜的能力。课程的开设为学生今后从事材料科学与工程专业的相关工作和科研工作打下良好的基础。
参考教材
《薄膜材料与薄膜技术》，郑伟涛，化学工业出版社，2008
《薄膜材料制备原理、技术及应用》，唐伟忠，冶金工业出版社，2003
《薄膜技术与薄膜材料》，田民波，清华大学出版社，2011
《半导体薄膜技术与物理》第二版，叶志镇，吕建国，吕斌，张银珠编著，浙江大学出版社，2014
教学资源
| 课程章节 | | 文件类型 | | 修改时间 | | 大小 | | 备注 | |
| 1.1 课程介绍与主要内容 |
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| 1.2 薄膜应用与定义 |
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| 1.3 薄膜分类 |
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| 1.4 等离子体定义与分类 |
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| 1.5 等离子体分类与特性 |
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| 2.1 等离子体产生方式 |
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| 2.2 气体放电 |
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| 2.3 等离子体中的反应 |
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| 2.4 等离子体与固体表面相互作用 |
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| 2.5 真空发展史 |
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| 3.1 真空区域划分 |
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| 3.2 真空获得与工作范围 |
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| 3.3 机械泵 |
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| 3.4 扩散泵 |
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| 3.5 分子泵与低温泵 |
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| 4.1 真空计测量原理 |
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| 4.2 CVD介绍 |
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| 4.3 CVD热力学与动力学 |
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| 4.4 光CVD与PECVD |
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| 4.5 MWCVD |
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| 5.1 MWCVD金刚石与cBN |
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| 5.2 MOCVD与总结 |
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| 5.3 真空蒸发原理 |
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| 5.4 蒸发速率与蒸发源 |
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| 5.5 电阻加热与电子束加热 |
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| 6.1 激光蒸发等与PLD |
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| 6.2 溅射基本原理 |
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| 6.3 溅射基本参数 |
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| 6.4 直流溅射 |
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| 6.5 射频溅射与磁控溅射 |
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| 7.1 反应溅射 |
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| 7.2 溅射镀膜实例介绍 |
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2022-02-12 | 8.53MB | |||
| 7.3 离子镀沉积 |
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| 7.4 电弧离子镀 |
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文档
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2022-02-12 | 9.50MB | |||
| 7.5 外延生长及总结 |
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2022-02-12 | 585.00KB | |||
| 8.1 单体吸附 |
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2022-02-12 | 328.50KB | |||
| 8.2 吸附原子运动 |
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2022-02-12 | 10.15MB | |||
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2022-02-12 | 1.35MB | |||
| 8.3 成核理论 |
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2022-02-12 | 12.17MB | |||
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2022-02-12 | 409.00KB | |||
| 8.4 生长过程与模式 |
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2022-02-12 | 22.88MB | ||
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2022-02-12 | 3.71MB | |||
| 8.5 成分表征及复习 |
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2022-02-12 | 3.57MB |
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